多級萃取膜處理-電積與單級萃取-電積以及離子膜電積工藝的對比分析
更新時間：2010-12-16 17:32
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本文通過多項放年對多級萃取膜電積工藝、單級萃取電積工藝和離子膜電積工藝進行闡述比較，具體參照和選擇使用需根據用戶實際取舍。
| 比較項目 | 多級萃取膜-電積工藝 | 單級萃取-電積工藝 | 離子膜電積工藝 |
| 氨洗水處理 | 氨洗水循環(huán)回用，減少蝕刻工序氨洗水用量90%以上 | 不能回用氨洗水 | 無氨洗水循環(huán)使用裝置 |
| 環(huán)保 | 無氯氣產生,氨揮發(fā)小，無廢水排放 | 水洗水直排，蝕刻液處理后增量需排放 | 產生巨毒氯氣，氨氮揮發(fā)流失大，環(huán)境污染嚴重 |
| 設備自動化程度 | 高 | 低 | 低 |
| 技術內涵 | 將萃取、膜處理、電解工程、有色冶金、水處理技術、環(huán)境工程、有機化工、精細化工、自動化控制、化工設備制造等技術進行隱含復合的高增值組合裝置。再生液銅離子在1-150克/升無級調整，占地面積在同等處理量情況下比同類設備小150%。 | 該技術來源于國外的濕法煉銅工藝，后國外公司將濕法煉銅工藝引入蝕刻液提銅處理。將提銅后的萃余液部份回用，生產過程有連續(xù)性廢水排放；赜靡夯瘜W組份難以控制，設備占地大，處理量小，蝕刻廢液銅離子一次循環(huán)在100克/升以上。該工藝由香港代理商引入國內，后多家公司模仿。 | 該技術來源于離子膜燒堿工藝，離子膜電解槽隔成陰極室和陽極室。蝕刻液進入陽極室；電解溶液加入陰極室，膜具有單項選擇性銅離子透過膜，而氯離子不能通過，電沉積在不銹鋼板陰極上產生塊狀電解銅，理論可行實際應用中由于膜單項選擇性的相對性，部份氯離子透過膜進入陰極室產生氯氣，蝕刻液直接與鐐銥析氯陽極接觸，溫度高，耗電高，氨氯析出量大，生產成本高，嚴重污染環(huán)境，設備占地面積按產能比較占地比其它產品大150% |
| 知識產權 | 國際、國內最新最高權威認證，自有知識產權 | 不清析 | 無國際認證，國內省級認證，知識產權己過期。 |
| 再生液品質 | 有水洗水循環(huán)工序，蝕刻液經過膜處理，無雜質轉入，蝕刻液穩(wěn)定 | 沒有水洗和膜處理工序，雜質和有機物易轉入到萃取劑和蝕刻液中 | 再生液因膜選擇透過的相對性，品質不穩(wěn)定，無法滿足電路板廠的品質要求 |
| 二次污染 | 蝕刻液完全回用，污染物零排放 | 蝕刻液循環(huán)次數有限，存在部分外排 | 存在部分蝕刻液外排，氨氮揮發(fā)大，并且電解過程產生劇毒—氯氣 |
| 銅品質 | 電解液純度高，陰極銅含量99.97%以上 | 電解液有少量雜質，陰極銅含量99% | 蝕刻液直接電解，陰極銅平均含量70%，成片狀，50%粉狀 |
| 設備操作 | 一個月出銅一次，勞動強度小,工作環(huán)境好 | 一個月出銅一次，勞動強度小 | 每天需要出銅一次，勞動強度大.氯氯揮發(fā)大，環(huán)境條件差. |
| 運行穩(wěn)定性 | 穩(wěn)定性高，高精密板 | 不穩(wěn)定 | 運行不穩(wěn)定，在低檔板廠有案列 |
| 電耗 | 低，2000度/噸銅 | 較低，2800度/噸銅 | 高5000度/噸銅 |
| 市場占有率 | 處市場主導地位，蝕刻液100%回用 | 前期有少量安裝，再生液不回用，部份己停用。 | 個別小廠安裝因蝕刻液不穩(wěn)定，氨氯揮發(fā)大，產生氯氣，已被拆除 |
| 技木成先進性 | 國內外領先 | 技術落后 | 不成熟，淘汰產品 |
| 再生液使用壽命 | 二年以上 | 使用壽命短 | 不確定 |
| 單臺最大廢液處理量 | 300噸/月 | 90噸/月 | 廣告上75噸/月，無樣板案例，實際30噸左右 |
| 產品目的 | 靠產品及服務為用戶節(jié)能減排增加經濟效益 | 僅靠賣設備，給用戶帶來技術風險。環(huán)保風險。 | 產品虛假宣傳早，力度大，但技術不成熟，無推廣價值，現與多家用戶因環(huán)保問題、再生液品質問題存在經濟糾紛己有多家樣板案例，存在技術風險。環(huán)保風險。有騙取國家扶植資金的嫌疑。 |
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