焦化廢水中氰化物深度處理工藝
研究表明,生化處理后焦化廢水中殘余的氰化物以高穩(wěn)定性的鐵氰化物為主〔1〕。常用的氯堿氧化法對該類氰化物基本處理無效,只能通過投加大量的硫酸亞鐵形成沉淀,將總氰控制在1mg/L左右〔2〕,但仍不能達(dá)到新頒布的煉焦化學(xué)工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB16171—2012)的限值要求(0.2mg/L)。從理論上講,鐵氰化物在紫外光下容易被破除其絡(luò)合物形態(tài),釋放游離氰化物〔3,4〕,溶液中若存在H2O2可以有效處理游離氰化物〔5〕,加之紫外光照射下水中的簡單氰化物也能被降解。因此,無二次污染的UV-H2O2工藝很可能是焦化廢水深度除氰的可選方法之一。筆者以焦化廢水混凝出水作為處理對象,采用UV-H2O2工藝進(jìn)行深度處理,考察UV-H2O2工藝對焦化廢水的處理效果,并確定最佳工藝條件。
1實(shí)驗部分
1.1廢水來源及水質(zhì)特征
實(shí)驗廢水取自上海某焦化廠生化-硫酸亞鐵混凝出水,廢水水質(zhì)見表1。
從表1可知,廢水中鐵元素含量遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過其他金屬,而易釋放氰僅占總氰的24%,該廢水中氰化物形態(tài)主要為鐵氰化物。
1.2試劑與儀器
試劑:過氧化氫、異煙酸、氯胺-T、吡唑啉酮、氫氧化鈉、磷酸二氫鉀、磷酸氫二鈉,均為分析純。
儀器:BT224S型電子天平,德國Sartorius集團(tuán);DR5000分光光度計,美國HACH公司;PB-10pH計,德國Sartorius集團(tuán);玻璃圓柱形反應(yīng)器(內(nèi)徑70mm,高300mm);紫外燈管(主波長254nm,功率15W);DK-S24型恒溫水浴槽,上海精宏實(shí)驗設(shè)備有限公司。UV-H2O2工藝反應(yīng)裝置如圖1所示。
圖1UV-H2O2工藝裝置
1.3分析方法
H2O2采用高錳酸鉀法測定;總氰采用AA3連續(xù)流動化學(xué)分析儀(英國Seal公司)測定,自動進(jìn)樣分析;易釋放氰采用HJ484—2009異煙酸-吡唑啉酮比色法測定。
1.4實(shí)驗方法
(1)UV-H2O2處理過程。取600mL混凝出水,調(diào)節(jié)pH,按一定物質(zhì)的量比投加H2O2,置于反應(yīng)器中,光照一定時間后取樣分析。
(2)單純UV處理過程。取600mL混凝出水,調(diào)節(jié)pH至7,置于反應(yīng)器中,光照一定時間后取樣分析。
2結(jié)果與討論
2.12種工藝對總氰的處理效果
分別采用UV照射和UV-H2O2工藝〔pH調(diào)至7,n(H2O2)∶n(CN)=50∶1〕處理實(shí)際廢水,反應(yīng)一段時間后取樣,加入抗壞血酸去除剩余的H2O2,總氰去除效果如圖2所示。由圖2可知,UV作用下總氰去除率呈先快后慢的趨勢。反應(yīng)2h后UV-H2O2工藝對混凝出水中總氰化物的去除率可達(dá)78%,處理后總氰化物<0.2mg/L,達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)要求;而單純UV照射2h后總氰去除率僅為56%,剩余總氰化物約為0.3mg/L,無法達(dá)標(biāo)。在水溶液中,鐵氰化物的光解通常符合表現(xiàn)一級動力學(xué),半衰期很短〔3,6〕。但由于焦化廢水成分復(fù)雜,部分芳香類有機(jī)物對紫外光同樣具有較強(qiáng)吸收,影響鐵氰化物對光子的利用率,因而總氰的降解速率要慢得多,處理時間相應(yīng)延長。焦化廢水中的UV254和COD變化曲線見圖3。
圖3中,采用UV-H2O2處理廢水時UV254和COD隨反應(yīng)時間延長明顯下降,加入H2O2后初始COD雖有升高但UV照射15min后COD立刻降至原始廢水濃度,并持續(xù)下降;采用單純UV照射時,UV254的變化很小,COD略微上升,這可能是由于部分不能被重鉻酸鉀氧化的有機(jī)物在UV作用下轉(zhuǎn)化為易氧化組分〔7〕。
對比圖2、圖3可見,焦化廢水中的總氰去除相對緩慢,原因是廢水含有的有機(jī)污染物吸收紫外光,同時UV-H2O2處理過程產(chǎn)生的·OH也被有機(jī)物消耗。因此采用UV-H2O2工藝處理前應(yīng)預(yù)處理去除水中有機(jī)污染物,特別是降低UV254,可有效提高除氰效率、降低工程能耗和藥劑消耗。
2.2pH對UV-H2O2工藝除氰效果的影響
在n(H2O2)∶n(CN)=50∶1條件下,考察pH對UV-H2O2工藝除氰效果的影響,實(shí)驗結(jié)果見圖4。處理前后廢水的pH變化情況見表2。
由圖4可知,采用UV-H2O2工藝處理廢水,pH為10和11時的效果好于pH為7和13,與H2O2處理簡單氰化物的最佳pH相同〔4〕;表2顯示處理過程中pH基本不變。當(dāng)pH為10、光照40min后,混凝出水總氰只有0.14mg/L,去除率為83%;當(dāng)pH為11,光照40min后總氰去除率為73%,混凝出水總氰恰好為0.2mg/L,達(dá)到新排放標(biāo)準(zhǔn)要求。
在UV-H2O2處理過程中,實(shí)際廢水中總氰的去除過程分為光解鐵氰化物和氧化氰離子兩個階段。C.A.P.Arellano等研究表明,鐵氰化物的光解速率隨溶液pH的增大而加快〔8〕,而氰離子的最佳氧化pH為9~10〔9〕。這與實(shí)驗確定的最佳反應(yīng)pH為10基本吻合。
2.3H2O2加入量對UV-H2O2工藝除氰效果的影響
調(diào)節(jié)廢水pH至10,n(H2O2)∶n(CN)分別取0∶1、5∶1、10∶1、50∶1、250∶1、500∶1,光照30min,考察H2O2加入量對UV-H2O2工藝除氰效果的影響,結(jié)果見圖5。
圖5H2O2加入量對處理效果的影響
由圖5可知,加入H2O2而未光照的廢水總氰基本不變化。n(H2O2)∶n(CN)<10∶1、UV照射30min后,總氰去除效果不明顯,而增加H2O2用量后處理效果明顯變好。由于實(shí)際廢水中存在大量有機(jī)物,采用UV-H2O2工藝處理時H2O2及產(chǎn)生的·OH可能先與有機(jī)物發(fā)生反應(yīng),與氰化物反應(yīng)的氧化劑較少,導(dǎo)致總氰去除率低;加大H2O2投加量后,相同時間內(nèi)總氰濃度明顯下降,當(dāng)n(H2O2)∶n(CN)為250∶1、pH=10、處理30min時,實(shí)際廢水總氰為0.18mg/L,去除率達(dá)到80%。實(shí)驗結(jié)果顯示H2O2加入量越多,效果越好,但出水中若含有過量H2O2將影響COD的測定,且浪費(fèi)藥劑。故推薦n(H2O2)∶n(CN)為250∶1,此實(shí)驗條件下擬合藥劑費(fèi)約為0.4元/t。具體參見http://www.dowater.com更多相關(guān)技術(shù)文檔。
3結(jié)論
(1)采用UV-H2O2工藝處理焦化廢水混凝出水,可使總氰達(dá)標(biāo)排放,效果好于單純UV處理,且出水COD優(yōu)于后者。(2)UV-H2O2工藝處理混凝出水最佳pH為10,n(H2O2)∶n(CN)為250∶1,光照30min后,出水總氰為0.18mg/L,去除率達(dá)80%,符合新總氰排放標(biāo)準(zhǔn)要求。
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