集成電路工業(yè)的廢氣處理
摘要:集成電路工業(yè)的廢氣有含氟化物和硫酸霧的酸性廢氣、含氨的堿性廢氣、含異丙醇和光刻膠的有機廢氣,含SiO2的含塵廢氣,以及含硅烷、磷烷的工藝尾氣等,這些工業(yè)廢氣中大部分成分是有毒有害的,必須進行有效的處理才能排入大氣中。本文主要討論上述工業(yè)廢氣的分類、處理方式、應(yīng)用范圍及應(yīng)用實例等。
關(guān)鍵詞:集成電路,工業(yè)廢氣處理
1引言
近十年來,集成電路產(chǎn)業(yè)在我國得到了迅速的展,隨著產(chǎn)業(yè)規(guī)模的持續(xù)擴大,隨之而產(chǎn)生的各種染也不斷引起企業(yè)、國家等方面的高度重視。集成路產(chǎn)生的污染物主要有生產(chǎn)廢水、工藝廢氣、生活水、動力設(shè)備噪聲和固體廢物等。這些污染物必須行有效治理,才能提供安全的工作環(huán)境及保護周的環(huán)境生態(tài)。本文將重點介紹工業(yè)廢氣的分類、處方式、應(yīng)用范圍及實例等。
2集成電路的工藝廢氣分類
集成電路的工藝廢氣主要分為6大類:
(1)酸性廢氣:來源于工藝流程中使用各種酸對芯片進行腐蝕、清洗的過程以及擴散等工序,主污染物為氟化物、氯化氫、氮氧化物、硫酸霧等。(2)堿性廢氣:來源于使用氨水、氨氣的刻蝕工,主要污染物為NH3。(3)有機廢氣:來源于清洗、勻膠、去膠、刻蝕、影工序使用有機溶劑清洗的過程,主要成份為異丙醇、光刻膠等有機物。(4)含塵廢氣:來源于CVD工藝排氣,主要污染物為粉塵(SiO2)。(5)工藝尾氣:來源于擴散、離子注入和CVD等工序使用的特殊氣體,如硅烷、磷烷、砷烷、乙硼烷(B2H6)等,除部分在工藝中反應(yīng)消耗外,其余均以尾氣的形式排放。(6)熱無處理廢氣:來源于擴散等工序中的熱氣排放,直接排入大氣。
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