大型工業(yè)純水設(shè)備 去離子水處理設(shè)備 全自動操作運(yùn)行穩(wěn)定
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人氣：805 發(fā)布時間：2022-12-08 13:51 關(guān)鍵詞：工業(yè)純水設(shè)備 反滲透設(shè)備 水處理設(shè)備 產(chǎn)品型號：JHHB1-100 應(yīng)用領(lǐng)域：水處理 產(chǎn)品價格：31500 想了解更多產(chǎn)品詳情，請 |
edi純水設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)
給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm
PH:5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)
溫度：5-35℃
進(jìn)水壓力： 大為4kg/cm2(60psi)小為1.5kg/cm2(25psi)
進(jìn)水條件
反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-20μs/cm，大允許電導(dǎo)率≤30μs/cm（NaCl）
pH值：7.5—9
溫度：15℃--35℃
進(jìn)水壓力（DIN）：0.15—0.4MPa
濃水進(jìn)水壓力：0.10—0.3MPa
產(chǎn)水壓力(DOUT)：0.05—0.25MPa
濃水出水壓力(COUT)：0.02—0.2MPa
進(jìn)水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 計）(推薦0 5ppm以下）
進(jìn)水有機(jī)物：TOC＜0.5ppm
進(jìn)水氧化劑：Cl2（活性）＜0.03ppm，O3（臭氧）＜0.02ppm
進(jìn)水重金屬離子：Fe、Mn、變價性金屬離子＜0.01ppm
進(jìn)水硅：SiO2＜0.5ppm
進(jìn)水總CO2：＜3ppm
進(jìn)水顆粒度：＜1μm
電除鹽EDI模塊采用模塊化技術(shù)，通過不同數(shù)量的模塊搭配，可以滿足各種水處理要求。為發(fā)電、半導(dǎo)體、微電子、化工以及生物制藥等行業(yè)的高純水的生產(chǎn)提供了有力的保障。
具有CE、UL、和CSA標(biāo)識，歐洲FDA衛(wèi)生認(rèn)證通過ISO900L:2000認(rèn)證能夠穩(wěn)定生產(chǎn)出電阻率高達(dá)18MΩ.cm的超純水。
EDI高純水設(shè)備特性
1、PLC全自動控制，無需人工值守，節(jié)省人力成本
2、EDI高純水設(shè)備能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水，且不會因為再生而停機(jī)
3、設(shè)備出水水質(zhì)高，出水穩(wěn)定，能耗低，水利用率高，運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低
4、關(guān)機(jī)時膜保護(hù)系統(tǒng)可自動沖洗膜面污染物，延長膜使用年限
5、結(jié)構(gòu)緊湊，占地小，大大節(jié)省了基建投資
工藝流程
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI超純水系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點
