edi純水設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)

給水:RO純水,一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm

PH:5.0-8.0(在此PH條件下,水硬度不能太高) 

溫度:5-35℃ 

進(jìn)水壓力: 大為4kg/cm2(60psi)小為1.5kg/cm2(25psi)

進(jìn)水條件

反滲透RO產(chǎn)水,電導(dǎo)率1-20μs/cm,大允許電導(dǎo)率≤30μs/cm(NaCl)

pH值:7.5—9

溫度:15℃--35℃

進(jìn)水壓力(DIN):0.15—0.4MPa

濃水進(jìn)水壓力:0.10—0.3MPa

產(chǎn)水壓力(DOUT):0.05—0.25MPa

濃水出水壓力(COUT):0.02—0.2MPa
進(jìn)水硬度:<1.0ppm(以CaCO 計(jì))(推薦0 5ppm以下)
進(jìn)水有機(jī)物:TOC<0.5ppm
進(jìn)水氧化劑:Cl2(活性)<0.03ppm,O3(臭氧)<0.02ppm
進(jìn)水重金屬離子:Fe、Mn、變價(jià)性金屬離子<0.01ppm
進(jìn)水硅:SiO2<0.5ppm
進(jìn)水總CO2:<3ppm
進(jìn)水顆粒度:<1μm

電除鹽EDI模塊采用模塊化技術(shù),通過(guò)不同數(shù)量的模塊搭配,可以滿足各種水處理要求。為發(fā)電、半導(dǎo)體、微電子、化工以及生物制藥等行業(yè)的高純水的生產(chǎn)提供了有力的保障。

具有CE、UL、和CSA標(biāo)識(shí),歐洲FDA衛(wèi)生認(rèn)證通過(guò)ISO900L:2000認(rèn)證能夠穩(wěn)定生產(chǎn)出電阻率高達(dá)18MΩ.cm的超純水。

EDI高純水設(shè)備特性

1、PLC全自動(dòng)控制,無(wú)需人工值守,節(jié)省人力成本

2、EDI高純水設(shè)備能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水,且不會(huì)因?yàn)樵偕C(jī)

3、設(shè)備出水水質(zhì)高,出水穩(wěn)定,能耗低,水利用率高,運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低

4、關(guān)機(jī)時(shí)膜保護(hù)系統(tǒng)可自動(dòng)沖洗膜面污染物,延長(zhǎng)膜使用年限

5、結(jié)構(gòu)緊湊,占地小,大大節(jié)省了基建投資

工藝流程

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI超純水系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)