#電子級(jí)溶劑 #純化 #溶劑純化 濕電子化學(xué)品在晶圓制程中應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，純化工藝技術(shù)逐步突破將加速進(jìn)口替代。濕電子化學(xué)品在半導(dǎo)體晶圓制程中應(yīng)用于晶圓清洗、刻蝕、顯影和洗滌去毛刺等工藝，在晶圓領(lǐng)域制造和封測(cè)領(lǐng)域應(yīng)用分布廣。

超凈高純?cè)噭┑膽?yīng)用多種多樣，例如在晶圓生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)于晶圓的清洗，在芯片制造光刻工藝中的刻蝕、顯影和洗脫過(guò)程，同時(shí)在芯片制造和 PCB 板制造中的電鍍液（例如硫酸銅）的制備原料硫酸也屬于超凈高純?cè)噭┓懂牎?nbsp;

在集成電路加工之前，必須對(duì)晶圓進(jìn)行清洗，清除殘留在晶圓上之微塵、 金屬離子及有機(jī)物之雜質(zhì)。CMP 研磨液的配置原料中涉及超凈高純?cè)噭┑膽?yīng)用，例如其中用作氧化劑的雙氧水（H2O2）和堿性溶液 KOH。在硅表面處理過(guò)程中涉及到堿洗除去 Si 余料和酸洗活化 SiO2 表面過(guò)程中分別涉及堿性試劑氨水 NH3H2O 和酸性試劑 H2SO4 等。 

目前已公開(kāi)的關(guān)于雙氧水離子交換樹(shù)脂純化法的專(zhuān)利主要有以下幾種:一是采用有機(jī)碳吸附加陰陽(yáng)離子交換法。二是采用陰陽(yáng)離子交換樹(shù)脂加混床離子交換樹(shù)脂法。三是采用大孔吸附樹(shù)脂加陰陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的處理方法。

綜上所述，離子交換樹(shù)脂純化法，不僅可以去除有機(jī)碳，而且也可去除部分金屬離子雜質(zhì)如fe、al等離子。但是實(shí)際應(yīng)用中，樹(shù)脂易分解，強(qiáng)度降低，生成類(lèi)膠質(zhì)固體，導(dǎo)致樹(shù)脂發(fā)生堵塞等問(wèn)題，并且處理成本高，分離效果差，純度達(dá)不到要求等問(wèn)題。

為解決現(xiàn)有技術(shù)中用于雙氧水純化的吸附樹(shù)脂易分解，強(qiáng)度低，純化效果差等問(wèn)題，海普功能材料有限公司通過(guò)特定手段處理吸附樹(shù)脂，改善樹(shù)脂物理結(jié)構(gòu)，應(yīng)用于雙氧水純化時(shí)，具有良好的純化效果，強(qiáng)度和吸脫附能力得到顯著提高。

該工藝可有效降低出水中TOC濃度，可保證出水達(dá)標(biāo)排放或滿足后續(xù)工藝的運(yùn)行要求；同時(shí)工藝流程簡(jiǎn)單，可實(shí)現(xiàn)全程自動(dòng)化操作，操作維護(hù)方便。