聯(lián)合等離子體光解廢氣設(shè)備（CPP）是我司聯(lián)合復(fù)旦大學(xué)開發(fā)的，CPP低溫等離子體工業(yè)廢氣專利處理技術(shù)采用的放電形式為雙介質(zhì)阻擋放電和紫外光復(fù)合分解技術(shù)，作為一種新的環(huán)境污染治理技術(shù)，由于能很容易使污染物分子高效分解且處理能耗低等特點，其使用前景廣闊，為工業(yè)廢氣的處理開辟了一條新的思路。

等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當外加電壓達到一定程度時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體技術(shù)在氣態(tài)環(huán)境污染物的治理，特別是難降解VOCs氣態(tài)污染物的降解方面有著廣泛的應(yīng)用前景。

我公司是在低溫等離子體的基礎(chǔ)上，采用了復(fù)合技術(shù)，耦合準分子紫外光輻射，形成了CPP雙介質(zhì)阻擋放電等離子體。

CPP聯(lián)合等離子體光解工業(yè)廢氣處理技術(shù)采用雙介質(zhì)阻擋放電方式產(chǎn)生等離子體，利用所產(chǎn)生的高能電子、自由基等活性粒子去激活、電離、裂解工業(yè)廢氣中的各組分，使之發(fā)生分解、氧化等一系列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，再耦合準分子紫外光輻射模塊，達多級凈化，從而消除各種污染源排放的各種異味、VOCs污染物。

  設(shè)備結(jié)構(gòu)

介質(zhì)阻擋放電是一種獲得高氣壓下低溫等離子體的放電方法,它是將一塊或者多塊絕緣介質(zhì)插入兩個金屬電極之間的氣隙中以實現(xiàn)阻擋放電通道的作用。介質(zhì)阻擋放電可以在0.001～10×10⁵Pa的氣壓下進行，具有輝光放電的大空間均勻放電和電暈放電的高氣壓運行的特點。整個放電是由許多在空間和時間上隨機分布的微放電構(gòu)成，這些微放電的持續(xù)時間很短，一般在10ns量級。介質(zhì)層對此類放電有兩個主要作用：一是限制微放電中帶電粒子的運動，使微放電成為一個個短促的脈沖；二是讓微放電均勻穩(wěn)定地分布在整個面狀電極之間，防止火花放電。因此，雙介質(zhì)阻擋放電具有放電溫度低，不容易點燃易燃易爆的氣體的特點。另外介質(zhì)阻擋放電由于電極不直接與放電氣體發(fā)生接觸，從而避免了電極的腐蝕問題。

聯(lián)合等離子體光解廢氣設(shè)備（CPP）是介質(zhì)阻擋放電耦合準分子紫外光輻射，反應(yīng)器為同軸圓柱形。

CPP反應(yīng)裝置內(nèi)耦合高能光波輻射，使該一體化反應(yīng)裝置在配備一臺電源的情況下實現(xiàn)兩種氣體放電過程，即常氣壓下氣體放電區(qū)（即污染氣體通過區(qū)）和準分子高能光輻射區(qū)。由于該一體化結(jié)構(gòu)形式比單純的等離子反應(yīng)裝置聯(lián)合了低氣壓下準分子高能光輻射過程，故稱之為“聯(lián)合等離子體光解技術(shù)”。

Ø  凈化原理

CPP設(shè)備是通過高能電子、紫外光子和激發(fā)態(tài)、亞穩(wěn)態(tài)、自由基等各種活性粒子作用于氣體分子或原子而使之降解的。通過高能電子打斷分子鍵，加上自由基和高能紫外光子的協(xié)同作用，大分子有機物被逐漸分解成小分子物質(zhì)，并最終轉(zhuǎn)化為穩(wěn)定的終態(tài)物質(zhì)。

Ø  工藝特點

該技術(shù)不僅可以應(yīng)用于各種工業(yè)廢氣治理，而且特別適合于有毒有害難降解的異味廢氣的治理，其特點如下：

u CPP技術(shù)對污染物的處理對象廣泛，幾乎對所有的異味污染物質(zhì)都有降解作用；

u 分解徹底，基本不產(chǎn)生二次污染；

u 高度智能化控制，遠程控制，操控方便；不受時間限制，即用即開，即關(guān)即停；

u 能耗低，單位能耗0.5-2W/Nm³氣體；

u 反應(yīng)時間很短，在0.01-0.1秒內(nèi)完成；

u 結(jié)構(gòu)簡單、占地面積小；